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halbleiterschutz:entstehung_des_schutzes

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Entstehung des Schutzes

§ 5 (1) HalblSchG

Der Schutz der Topographie entsteht

1. an dem Tag der ersten nicht nur vertraulichen geschäftlichen Verwertung der Topographie, wenn sie innerhalb von zwei Jahren nach dieser Verwertung beim Deutschen Patent- und Markenamt angemeldet wird, oder

2. an dem Tag, an dem die Topographie beim Deutschen Patent- und Markenamt angemeldet wird, wenn sie zuvor noch nicht oder nur vertraulich geschäftlich verwertet worden ist.

§ 5 (3) HalblSchG

Der Schutz der Topographie kann nur geltend gemacht werden, wenn die Topographie beim Deutschen Patent- und Markenamt angemeldet worden ist.

siehe auch

HalblSchG → Halbleiterschutzgesetz

halbleiterschutz/entstehung_des_schutzes.txt · Zuletzt geändert: 2022/09/08 07:54 von mfreund